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成都刻章-光敏印章---成都刻章網(wǎng)
    發(fā)布時間: 2014-11-08 16:54    
光敏印章是上個世紀九十年代初由日本發(fā)明的，它是由一種特殊的化工合成材料，通過專用設(shè)備瞬間發(fā)出強光輻射，使材料表面發(fā)生光氧化及熱交聯(lián)作用從而制成的印章。
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